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分子泵在PVD设备上的应用



磁控溅射镀膜的工作原理是电子在电场作用下飞向基片的过程中与Ar原子发生碰撞使其电离,Ar+离子在电场作用下加速轰击靶材使其溅射,其中中性靶原子或分子沉积在基片形成薄膜,而二次电子被电场和磁场束缚在靶材表面并进一步电离出大量Ar+离子来轰击靶材,从而实现较高沉积效率。







工作原理图

电脑控制图


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磁控溅射镀膜机一般主要由主腔室,进样室,真空泵系统,电源及靶枪,样品台,工艺气体组件,冷水机,电脑控制器等几部分组成,其中真空室的洁净度以及真空系统所能够达到的真空水平直接关系到成膜的质量,同时设备的稳定也可以确保工艺器件重复性偏差小,科研实验成果更准确和更具说服力。


一般磁控溅射选用分子泵+机械泵组合的偏多,极限真空根据设备厂家加工能力和安装水平等因素略有差异,基本设备的极限真空度保持在5*10-7mbar或高半个数量级水平。


典初真空长期为科研用户提供分子泵和机械泵新品和真空泵的维护保养工作,下图为德国普发分子泵应用在美国Kurt镀膜机上的案例。




德国普发分子泵在镀膜机上的应用


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典初真空可以提供多款进口真空泵产品,包括分子泵、机械泵等,同时也供应真空阀门、真空测量仪器、真空管件等。


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